著錄信息
- 專利名稱：一種卷對卷等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積裝置
- 專利類型：發(fā)明
- 申請?zhí)枺?/em>CN200910181458.0
- 公開(公告)號：CN101629283B
- 申請日：20090716
- 公開(公告)日：20110427
- 申請人：江蘇雙登集團(tuán)有限公司
- 發(fā)明人：郝三存,邵雙喜,李丹,段和勛
- 申請人地址：225526 江蘇省姜堰市梁徐鎮(zhèn)雙登科工園1號
- 申請人區(qū)域代碼：CN321284
- 專利權(quán)人：江蘇雙登集團(tuán)有限公司
- 洛迦諾分類：無
- IPC：C23C16/54,C23C16/50
- 優(yōu)先權(quán)：無
- 專利代理機(jī)構(gòu)：南京天華專利代理有限責(zé)任公司 32218
- 代理人：徐冬濤;瞿網(wǎng)蘭
- 審查員：彭梅香
- 國際申請：無
- 國際公開(公告)：無
- 進(jìn)入國家日期：無
- 分案申請：無
關(guān)鍵詞
真空室,柔性基體材料,卷繞,傳送導(dǎo)軌,柔性基體,沉積,表面張力,等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積,傳送過程,精確控制,快速冷卻,運(yùn)輸效率,真空腔室,加熱室,卷對卷,冷卻輥,熱收縮,張緊輪,導(dǎo)軌,張力,平整
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