著錄信息
- 專(zhuān)利名稱(chēng)：一種GaN基發(fā)光二極管芯片的制備方法
- 專(zhuān)利類(lèi)型：發(fā)明
- 申請(qǐng)?zhí)枺?/em>CN201410594339.9
- 公開(kāi)(公告)號(hào)：CN104300048B
- 申請(qǐng)日：20141029
- 公開(kāi)(公告)日：20170215
- 申請(qǐng)人：山東浪潮華光光電子股份有限公司
- 發(fā)明人：劉巖,馬玉玲,彭璐,徐現(xiàn)剛
- 申請(qǐng)人地址：261061 山東省濰坊市高新區(qū)金馬路9號(hào)
- 申請(qǐng)人區(qū)域代碼：CN370705
- 專(zhuān)利權(quán)人：山東浪潮華光光電子股份有限公司
- 洛迦諾分類(lèi)：無(wú)
- IPC：H01L33/02
- 優(yōu)先權(quán)：無(wú)
- 專(zhuān)利代理機(jī)構(gòu)：濟(jì)南日新專(zhuān)利代理事務(wù)所 37224
- 代理人：王書(shū)剛
- 審查員：劉天飛
- 國(guó)際申請(qǐng)：無(wú)
- 國(guó)際公開(kāi)(公告)：無(wú)
- 進(jìn)入國(guó)家日期：無(wú)
- 分案申請(qǐng)：無(wú)
關(guān)鍵詞
光刻膠,去除,制備,干法刻蝕,芯片表面,刻蝕,殘留,等離子體去除,生產(chǎn)周期,表面殘留,表面生長(zhǎng),刻蝕氣體,工藝流程,鈍化層,面結(jié)構(gòu),芯片,制作,保證
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