著錄信息
- 專利名稱：一種制備球狀光刻膠掩膜的方法
- 專利類型：發(fā)明
- 申請(qǐng)?zhí)枺?/em>CN201210087907.7
- 公開(kāi)(公告)號(hào)：CN103367558B
- 申請(qǐng)日：20120329
- 公開(kāi)(公告)日：20161130
- 申請(qǐng)人：山東浪潮華光光電子股份有限公司
- 發(fā)明人：王德曉,劉存志,王成新,沈燕,任忠祥
- 申請(qǐng)人地址：261061 山東省濰坊市高新區(qū)金馬路9號(hào)
- 申請(qǐng)人區(qū)域代碼：CN370705
- 專利權(quán)人：山東浪潮華光光電子股份有限公司
- 洛迦諾分類：無(wú)
- IPC：H01L33/00,H01L21/027,G03F7/00
- 優(yōu)先權(quán)：無(wú)
- 專利代理機(jī)構(gòu)：濟(jì)南金迪知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 37219
- 代理人：呂利敏
- 審查員：王勇
- 國(guó)際申請(qǐng)：無(wú)
- 國(guó)際公開(kāi)(公告)：無(wú)
- 進(jìn)入國(guó)家日期：無(wú)
- 分案申請(qǐng)：無(wú)
關(guān)鍵詞
制備,光刻膠顆粒,腐蝕,光刻膠掩膜,金屬圓環(huán),光刻膠,襯底,次光,熱熔,形貌,長(zhǎng)圓柱體,技術(shù)難題,球狀形貌,形貌可控,長(zhǎng)圓柱,短圓柱,高反射,可控性,異形柱,光刻,掩膜,半導(dǎo)體
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