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著錄信息

  • 專利名稱:構(gòu)造光敏裝置的方法
  • 專利類型:發(fā)明
  • 申請?zhí)枺?/em>CN201480039447.8
  • 公開(公告)號:CN105378944B
  • 申請日:20140512
  • 公開(公告)日:20171201
  • 申請人:法國電力公司,國家科學(xué)研究中心
  • 發(fā)明人:姆艾里阿姆·佩雷,金-弗朗索斯·古伊萊莫萊斯,勞倫特·洛姆貝茲,丹尼爾·林科特,斯泰凡·科林,金-盧克·佩勞阿德
  • 申請人地址:法國巴黎
  • 申請人區(qū)域代碼:FR
  • 專利權(quán)人:法國電力公司,國家科學(xué)研究中心
  • 洛迦諾分類:
  • IPC:H01L31/054,H01L31/0232,H01L31/0216
  • 優(yōu)先權(quán):FR1354618 20130522
  • 專利代理機構(gòu):上海天協(xié)和誠知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所 31216
  • 代理人:張軼
  • 審查員:謝中亮
  • 國際申請:PCT/FR2014/051093 20140512
  • 國際公開(公告):WO2014/188105 20141127
  • 進入國家日期:20160111
  • 分案申請:

關(guān)鍵詞

上表面,電化學(xué)工藝,疏水性材料,光敏裝置,透明材料,非光敏,聚光鏡,親水層,波長,光敏,噴灑,基層,覆蓋
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