著錄信息
- 專利名稱：分子水平上的系譜重建的裝置和方法
- 專利類型：發(fā)明
- 申請?zhí)枺?/em>CN201410371632.9
- 公開(公告)號：CN104134016B
- 申請日：20140730
- 公開(公告)日：20171215
- 申請人：北京諾禾致源科技股份有限公司
- 發(fā)明人：閆軍,張彥麗,吳俊,張瑩瑩,吳成瓊
- 申請人地址：100044 北京市昌平區(qū)回龍觀鎮(zhèn)生命園路29號創(chuàng)新大廈B258室
- 申請人區(qū)域代碼：CN110114
- 專利權(quán)人：北京諾禾致源科技股份有限公司
- 洛迦諾分類：無
- IPC：G06F19/16
- 優(yōu)先權(quán)：無
- 專利代理機(jī)構(gòu)：北京康信知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11240
- 代理人：吳貴明;張永明
- 審查員：吳瑤裔
- 國際申請：無
- 國際公開(公告)：無
- 進(jìn)入國家日期：無
- 分案申請：無
關(guān)鍵詞
區(qū)塊,遺傳,染色體區(qū)段,分子水平,遺傳起源,樣品組,方法和裝置,全基因組,遺傳關(guān)系,兼容性,區(qū)塊組,重建,染色體,比對,推斷
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