著錄信息
- 專利名稱：一種勻場及消相干裝置
- 專利類型：發(fā)明
- 申請?zhí)枺?/em>CN201510645640.2
- 公開(公告)號：CN105116556B
- 申請日：20151008
- 公開(公告)日：20171027
- 申請人：杭州中科極光科技有限公司
- 發(fā)明人：王棟棟,張文平,孫敏遠(yuǎn),畢勇,劉新厚,王東周,高偉男
- 申請人地址：310018 浙江省杭州市杭州經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)白楊街道21號大街600號2幢107室
- 申請人區(qū)域代碼：CN330104
- 專利權(quán)人：杭州中科極光科技有限公司
- 洛迦諾分類：無
- IPC：G02B27/09,G02B27/48
- 優(yōu)先權(quán)：無
- 專利代理機(jī)構(gòu)：北京正理專利代理有限公司 11257
- 代理人：張雪梅
- 審查員：吳莉芳
- 國際申請：無
- 國際公開(公告)：無
- 進(jìn)入國家日期：無
- 分案申請：無
關(guān)鍵詞
勻光片,支架,環(huán)支架,內(nèi)環(huán),勻場,電磁鐵,彈性連接件,平行光束,激光束,永磁體,激光,消相干裝置,大小變化,固定設(shè)置,間隔均勻,振動運(yùn)動,彈性力,前透鏡,吸附力,相干,光強(qiáng),勻化,擾亂
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